講義コード
授業番号
授業科目名ナノプロセス工学特論
科目名(英題)
講義題目
授業科目区分コア科目(情報エレクトロニクス分野)
開講年度2009
開講学期前期
曜日時限
必修選択選択
単位数2.0
担当教員白谷正治
対象学部等システム情報科学府・電気電子工学専攻
対象学年修士1年
開講地区伊都地区
履修条件履修条件は特に定めない.
授業概要ULSI,薄型テレビ,太陽電池等の電子デバイス作製の60%以上を担っている,プラズマを用いた材料プロセシング技術について講義する.
全体の教育目標プラズマを用いた材料プロセシング技術の基本原理とその産業応用について説明できるようにする.
個別の学習目標授業計画を参照のこと.
授業計画授業は次の項目で構成する.コマ数は目安であり,授業の進み具合によって適宜調整する.
1 序論(1コマ)
2 材料プロセシング技術の概要(1コマ)
3 プラズマエッチングの基礎(1コマ)
4 プラズマCVDの基礎(2コマ)
5 プラズマの定義と基本的性質(2コマ)
6 プラズマの単一粒子理論(1コマ)
7 プラズマの流体理論(1コマ)
8 プラズマの運動論(1コマ)
9 高周波放電(1コマ)
10 マイクロ波放電(2コマ)
11 まとめ(1コマ)
キーワードプラズマ,微細加工,薄膜
授業の進め方配布資料を中心に講義に加えて参加者で議論する形で進めます.
テキストM. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg: Principles of Plasma Discharges and Materials Processing 世界で広く使用されている名著です
参考書
学習相談教員室(場所は授業中に提示する)で学習相談を行います.希望する者は,事前に電子メールで相談希望日時,相談内容を連絡し,予約して下さい.
試験/成績評価の方法等出席(30%)
筆記試験(70%)
その他講義では本物の理解が得られるように多角的に説明を行う.